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真空蒸鍍?cè)韺⒈诲儽∧せ模ㄍ矤睢逞b在真空蒸鍍機(jī)中，用真空泵抽真空，使鍍膜中的真空度達(dá)到1.3×10－2～1.3×10-3Pa，加熱坩鍋使高純度的鋁絲在1200℃～1400℃的溫度下溶化并蒸發(fā)成氣態(tài)鋁。氣態(tài)鋁微粒在移動(dòng)的薄膜基材表面沉積、經(jīng)冷卻還原即形成一層連續(xù)而光亮的金屬鋁層。通過控制金屬鋁的蒸發(fā)速度、薄膜基材的移動(dòng)速度以及鍍膜室的真空度等來控制鍍鋁層的厚度，一般鍍鋁層厚度在25～500nm，鍍鋁薄膜的寬度為800mm～2000mm。

目前應(yīng)用多的鍍鋁薄膜主要有聚酯鍍鋁膜（VMPET）和CPP 鍍鋁膜（VMCPP）。薄膜表面鍍鋁的作用是遮光、防紫外線照射，既延長(zhǎng)了內(nèi)容物的保質(zhì)期，又提高了薄膜的亮度，從一定程度上代替了鋁箔，也具有價(jià)廉、美觀及較好的阻隔性能，因此，鍍鋁膜在復(fù)合包裝中的應(yīng)用十分廣泛，目前主要應(yīng)用于餅干等干燥、膨化食品包裝以及一些醫(yī)l藥、化妝品的外包裝上。

塑料薄膜的鍍鋁工藝一般采用直鍍法，即將鋁層直接鍍?cè)诨谋∧け砻妗Ｕ翦儠r(shí)，將卷筒薄膜置放于真空室內(nèi)，關(guān)閉真空室抽真空。當(dāng)真空度達(dá)到一定（4×10－4mba以上）時(shí)，將蒸發(fā)舟升溫至1300℃～1400℃，然后再把純度為99．9%的鋁絲連續(xù)送至蒸發(fā)舟上。調(diào)節(jié)好放卷速度、收卷速度、送絲速度和蒸發(fā)量，開通冷卻源，使鋁絲在蒸發(fā)舟上連續(xù)地熔化、蒸發(fā)，從而在移動(dòng)的薄膜表面冷卻后形成一層光亮的鋁層即為鍍鋁薄膜。

真空鍍鋁膜的生產(chǎn)工藝流程

真空鍍鋁膜的生產(chǎn)工藝流程為：基材放卷→抽真空→加熱蒸發(fā)舟→送鋁絲→蒸鍍→冷卻→測(cè)厚→展平→收卷；其真空鍍鋁方式有轉(zhuǎn)移法和直接蒸鍍法兩種。

（1） 轉(zhuǎn)移法是借助載體膜將金屬鋁層轉(zhuǎn)移到基材表面而形成真空鍍鋁膜的一種工藝。轉(zhuǎn)移法是在直接蒸鍍法基礎(chǔ)上發(fā)展起來的新工藝，彩色鍍鋁膜廠家，它克服了直接蒸鍍法對(duì)基材要求的局限性，尤其適合于在各種紙及紙板上進(jìn)行鍍鋁，福建彩色鍍鋁膜，也可用于塑料薄膜的鍍鋁。

（2）直接蒸鍍法是被鍍基材直接通過真空鍍膜機(jī)，將金屬鋁蒸鍍?cè)诨谋砻娑纬烧婵斟冧X膜的一種工藝。直接蒸鍍法對(duì)基材的要求較高，尤其是表面要形成光亮的金屬膜時(shí)，彩色鍍鋁膜批發(fā)，需要求基材具有較好的表面平滑度。如果紙張的表面較粗糙，則采用直接蒸鍍法時(shí)，需要在鍍鋁前進(jìn)行表面涂布。另，在蒸鍍過程中要求基材的揮發(fā)物要少。直接蒸鍍法主要適用于蒸鍍塑料薄膜，也可用于紙張的蒸鍍，但紙張的質(zhì)量要求高，并對(duì)紙的定量有一定的限度；也就是說直接蒸鍍法對(duì)基材的適用范圍有較大的局限性。

真空鍍鋁對(duì)被鍍基材的要求：

（1）基材表面清潔光滑、平整、厚度均勻，即基材應(yīng)具有一定的強(qiáng)度和表面平滑度；挺度和摩擦系數(shù)適當(dāng)。

（2） 耐熱性好，基材經(jīng)得起蒸發(fā)源的熱輻射和蒸發(fā)物的冷凝潛熱，基材含水量低于0.1%。。

（3）薄膜基材產(chǎn)生的揮發(fā)性物質(zhì)要少；表面潤(rùn)濕張力大于38dyn/cm。

（4）對(duì)鍍鋁層的粘接性良好；對(duì)于非極性材料，真空鍍鋁前應(yīng)進(jìn)行表面處理、以提高與鍍層的粘接性。

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